就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產品，
對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風循環(huán)真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
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HMDS預處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
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HMDS氣相成底膜烘箱預處理的優(yōu)勢
來源:
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作者:上海雋思半導體設備部
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發(fā)布時間: 2024-11-28
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在集成電路制造的光刻工藝中，為了保證光刻膠在晶圓處理過程中更好的完成圖形轉移，需要在晶圓上先進行噴涂hmds預處理的工藝，將晶圓表面親水性的置換為疏水性的，使晶圓表面接觸角達到65或更高。
HMDS 可以通過旋轉稀釋溶液直接涂在晶片上，并允許 HMDS 旋轉干燥（HMDS 在室溫下非常易揮發(fā)）。如果 HMDS 不適當干燥，則會導致顯著的附著力損失。雖然直接旋涂很容易，它僅在置換一小部分硅烷醇基團時有效。迄今為止，施加增粘劑的優(yōu)選方法是將基材置于 HMDS 蒸汽中，通常是在升高溫度和降低壓力下。這樣在沒有過多 HMDS 沉積的情況下對基材進行良好的涂覆，并且更高的溫度會導致與硅烷的反應更完全。用 HMDS 正確處理后，基材可以放置數(shù)天而不會明顯重新吸附水。在同一HMDS氣相成底膜烘箱中進行脫水烘烤和蒸汽灌注可提供最佳性能。
HMDS氣相成底膜烘箱適用產品
硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料等。
HMDS氣相成底膜烘箱性能
HMDS藥液泄漏報警提示
HMDS低液位報警提示
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
藥液管道預熱功能
程序鎖定保護等功能
產品兼容性：1-12寸產品、方片、碎片及大型面板（可定制）
溫度范圍：RT-200℃
真空度：1torr
操作方式：人機界面，一鍵運行
HMDS控制：可控制HMDS 藥液添加量
真空泵：無油渦旋真空泵
附件功能：圖像反轉功能
